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另外網站光刻機？曝光機？從製程特性聊怎麼稱呼更合理也說明：在台灣，這道製程大多稱呼為曝光顯影，或稱為黃光製程，雖然兩邊用語不同，但我認為台灣的用法更為精準。 image *from ASML. 在半導體製程中，粗略可分為 ...

國立交通大學 管理學院高階主管管理碩士學程 張家齊、戴天時所指導 李淮吉的 半導體曝光機的發展及演進以C公司為研究對象 （2019），提出曝光機asml關鍵因素是什麼，來自於曝光機、半導體製造、管理策略。

而第二篇論文國立臺灣科技大學 高階科研EMRD 鄭正元、王孔政所指導 許富淞的 半導體曝光機設備商服務管理策略之研究 （2019），提出因為有 半導體設備、服務策略、客戶管理的重點而找出了 曝光機asml的解答。

最後網站第一章緒論 - 國立交通大學則補充：... 曝光機連. 接成生產線之界面等以降低設備擁有成本、提高生產效率及減少晶圓表面污染。 3.2.2 曝光機ASML Scanner. 目的為將光罩上的圖形轉印至晶圓的光 ...

接下來讓我們看這些論文和書籍都說些什麼吧：

除了曝光機asml，大家也想知道這些：

曝光機asml進入發燒排行的影片

投資台積電也了解一下台積電的技術護城河在哪裡吧！奈米製程裡用到的EUV技術，極紫外光是什麼呢？雖然三星、Intel英特爾也有EUV光刻機/曝光機，但是最終能夠駕馭這個技術並成功量產的還是 2330 台積電。

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EUV的成果是2330台積電股價可以攀升的原因之一。為什麼呢？因為臺積電在這個製程領先才能在7奈米、5奈米上領先對手三星、Intel，讓訂單持續湧入。臺積電在防塵技術上的突破，就算是一顆奈米級的灰塵也會因此影響半導體廠的生產良率，而EUV光刻機對於防塵的要求又比過去採用DUV光刻機時更高，因此在三星及Intel都還卡在防塵處理這關時，台 積 電 成功改良了光罩防塵技術，就因此讓TSMC成為全球首間導入EUV技術並且達成量產的廠商，在7奈米的訂單上大幅超越死敵三星。

極紫外光大家可以理解為一種波長較短的紫外光，lithography最早是石版印刷的意思，現在也被用來稱呼為光刻技術，所以把他們兩者合起來就是“利用極紫外光來進行雕刻”的意思，那要雕什麼呢？要雕晶圓。

延伸閱讀：
台積電如何在財務數據打趴中芯國際
https://www.stockfeel.com.tw/?p=97264
挑戰晶圓代工霸主(I)─台積電VS聯電
https://www.stockfeel.com.tw/?p=41088
格羅方德退出 7 奈米 台積電笑納 AMD 需求
https://www.stockfeel.com.tw/?p=70550

資料參考：
《一文看懂光刻機》
《晶圓代工爭霸戰：半導體知識(前傳) 》
《拿走英特爾的皇冠、超車三星，台積電贏在一顆奈米級灰塵 》

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台積電拚5奈米關鍵技術！影片直擊極紫外光EUV微影技術是怎麼運作的https://www.bnext.com.tw/article/57392/asml-euv-tsmc-how-to-operation
何謂 EUV 微影？https://www.gigaphoton.com/ct/technology/euv-topics/what-is-euv-lithopgraphy

半導體曝光機的發展及演進以C公司為研究對象

為了解決曝光機asml的問題，作者李淮吉 這樣論述：

佳能(Canon) 是日本老字號的公司，然而一般人對Canon印象最為深刻的是Canon照相機，本論文研究主要討論的是Canon半導體曝光機，而非大家耳熟能詳的照相機，曝光機簡單的形容就是一台大型的照相機。當今的科技日益進步，半導體的生態也隨著環境的變遷，本研究論文以討論半導體曝光機設備為主，市場變化萬千，一個公司的成功與失敗，經營者的管理模式、決策力、判斷力將對日後產生極大的影響。本研究主要在探討Canon在處於落後的環境下，上層管理者如何運用策略確保既有的市場，同時還能創造出新的市場舞台，在競爭激烈的環境下不被市場所淘汰。同時更期待推出創新奈米壓印技術設備，以降低半導體生產成本，翻轉半導

體新的製程。

半導體曝光機設備商服務管理策略之研究

為了解決曝光機asml的問題，作者許富淞 這樣論述：

第一章 緒論 11.1 研究背景 11.2 研究動機與目的 21.3 研究方法與流程 31.4 論文章節結構 6第二章 文獻探討 72.1 麥克．波特(Michael E. Porter)價值鏈與垂直整合 92.2 希爾和瓊斯(Hill & Jones)論價值鏈與策略規劃 122.3 服務策略應用 15第三章 產業與個案公司現況 183.1 全球半導體設備產業現 183.2 曝光機設備競爭廠商現況 233.3 個案公司企業發展現況 30第四章 個案公司服務策略 354.1 個案公司競爭力分析與服務管理現況

354.2 個案公司服務策略與五力分析 384.3 個案公司服務策略規劃 41第五章 結論與建議 525.1 研究結論 525.2 研究建議與限制 52參考文獻 54

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