曝光機光源的問題，透過圖書和論文來找解法和答案更準確安心。 我們找到下列問答集和資訊懶人包

一種仿真LED平行曝光的調控演算法之研究

為了解決曝光機光源的問題，作者陳品硯 這樣論述：

本論文主要在研究一種仿真LED平行曝光的調控演算技術，可用來模擬LED在平行曝光機中，因UV-LED的光衰變或搭配的準直二次光學元件偏移造成曝光成效不佳的結果。將單一LED與其相配合之二次光學元件組成光源組的照度分佈模型化，藉由建立各個距離目標平面D和光源直徑S的比率(距離直徑比，DSR)的光照度分佈函數，接著依據光照度疊加理論、二次微分法對多光源間距進行最佳化的演算，再將實際掃描式平行曝光機可能的光源組偏移誤差帶入演算法中計算最佳間距，建立配合反射元件的虛擬光源，增加可用的工作面積，最終完成仿真LED平行曝光的調控演算法的撰寫。由於以UV-LED為光源所配合的準直二次光學元件製造不易，些微

誤差即可造成光分佈不均的情況，因此考量未來模擬與實作驗證的可能性，本研究以白光LED仿真實際UV-LED作為模擬光源來代替。將照度模擬結果以最小平方法模型化，考慮實際的光源偏差，建立包含直線偏移和角度偏移的光分佈函數，再藉由數學函數的疊加原理建立陣列光分佈函數，光源偏移的參數參考履帶帶動光源進行週期性掃描曝光的方式，以常態分佈的概念在± 0.005mm作直線偏移、±0.5度作角度偏移。最終本研究在理想不偏移的情況下演算所得的最佳間距，DSR=8、10、12、14、16、20之照度均勻度皆大於94%，在偏移極值的情況下，每個DSR的照度均勻度皆大於93%，而在亂數偏移的情況下，DSR越大，角度偏

移對光源偏移的特徵越明顯，照度均勻度降低，因此DSR為8、10、12會有較好的照度均勻度結果，最後建立反射元件的演算法，藉由增加虛擬光源的方式，使的各DSR的可用工作面積增加，而其中DSR為12時從140×140〖mm〗^2增加為150×150〖mm〗^2，可用工作面積增加約14.7%。

光壓縮雙反射鏡應用於UV LED曝光機 之複眼透鏡入光光學設計

為了解決曝光機光源的問題，作者鄭舜遠 這樣論述：

隨著科技進步UV LED的功率逐漸提高下，半導體製程的光照技術所使用的曝光機內的光源從原本的燈泡型被極小尺寸的小光源面積的UV LED光源所取代，過去以透鏡組將光源角度收斂程所需要的出光角範圍，再射入複眼透鏡去做均光處理，在透鏡組的架構下每經過一個透鏡時會因介面折射率不同以及厚度的影響下會有所損失以及光線能進複眼透鏡內並均光有效在一定小角度範圍內，因此我們以雙反射鏡的架構嘗試去設計曝光機光源，希望以雙反射鏡的架構下能解決透鏡組的損失並轉換成我目標區域的效率，試圖用小尺寸lambertian LED光源來做為光源，以複眼透鏡作為岀光的目標，出光角度也限至在一定範圍內，跟過往在曝光機的設計透鏡組

的思考邏輯有所不同，嘗試並探討雙反射鏡對於縮小光源的可能性。此研究將分成兩個階段，為了尋找雙反射鏡的光學設計，第一階段為了有系統的管理並有效分析光學，我們提出一套方法，射線角度分割統計法，簡稱射線群法，我們試著用這套方法敘述著我們所嘗試的方法也試圖敘述非成像的觀念以及現象，希望藉由此方法可以達到有效的管理光學系統。以出光角度±12°為目標制定出反射鏡的設計參數並以射線群觀點來處理Lambertian分布之LED圓形光源，研究中使用1mm x 1mm之LED為光源，以射線群法分析對於不同入光角度對於反射鏡的角度範圍分布狀況，試圖去尋找曲率半徑以及反射鏡間距的變化性並，統計出有效益性的角度範圍並設

計出初步設計。第二階段依據第一階段經由射線群法分析光線經由反射鏡作用設計出初步設計再以 ASAP中的退火法優化法試圖以演算法的方式去找出最佳設計的反射鏡參數得以達再提升效率。經由射線群法分析所設計出的雙反鏡架構的初步設計於目標角度範圍±12°下所得到的效率為65%，再經一由ASAP中的退火演算法來進行優化後小幅提升為70%，隨然不像透鏡組會有厚度或是折射率上的損失，但因不同角度光線因多次反射所以不能大幅度的修整反射角度使光線反射到目標的角度範圍內，可能需要以數學式精準的計算建立數據庫去或是使用其他演算法，但就在本研究中提出射線群法之方式且能夠分析各出光現象能夠快速地幫助後人在設計上能有個初步設

計架構。