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光罩種類的問題，透過圖書和論文來找解法和答案更準確安心。 我們找到下列問答集和資訊懶人包
光罩種類的問題，我們搜遍了碩博士論文和台灣出版的書籍，推薦菊地正典寫的 看圖讀懂半導體製造裝置 和新知互動的 攝影曝光 設計寶典都 可以從中找到所需的評價。
另外網站半導體＆ ETCH 知識，你能答對幾個？ - 吳俊逸的數位歷程檔也說明：蝕刻種類: 答：(1)干蝕刻(2)濕蝕刻. 蝕刻對象依薄膜種類可分為: ... 一般矽片的製造常以幾P幾M 及光罩層數(mask layer)來代表矽片工藝的時間長短， ...
這兩本書分別來自世茂 和經瑋所出版 。
國立中央大學 高階主管企管碩士班 吳大任所指導 楊雲龍的 全球光罩產業之SCP分析 （2014），提出光罩種類關鍵因素是什麼，來自於光罩、微影製程、寡佔、專業半導體光罩廠、自製光罩廠、結構-行為-績效、前四大廠商市場佔有率指標、賀氏指標。
而第二篇論文僑光科技大學 資訊科技研究所 徐欽志、高文星所指導 翟家慧的 應用邏輯運算在大尺寸光罩的選擇性線寬補償 （2013），提出因為有 光罩、邏輯運算、蝕刻的重點而找出了 光罩種類的解答。
最後網站行政院國家科學委員會專題研究計畫成果報告 - 臺灣科技大學 ...則補充：中文摘要： 本研究使用立體光罩(3D-mask)與近接式曝光(proximity ... 接著透過PDMS 製作出微針模仁，再搭配微熱壓成型製作出不同尺寸與種類的高分子可降解微針.
看圖讀懂半導體製造裝置
為了解決光罩種類 的問題，作者菊地正典 這樣論述：
清華大學動力機械工程學系教授 羅丞曜 審訂 得半導體得天下？ 要想站上世界的頂端，就一定要了解什麼是半導體！ 半導體可謂現在電子產業的大腦，從電腦、手機、汽車到資料中心伺服器，其中具備的智慧型功能全都要靠半導體才得以完成，範圍廣布通信、醫療保健、運輸、教育等，因此半導體可說是資訊化社會不可或缺的核心要素！ 半導體被稱為是「產業的米糧、原油」，可見其地位之重要 臺灣半導體產業掌握了全球的科技，不僅薪資傲人，產業搶才甚至擴及到了高中職！ 但，到底什麼是半導體？半導體又是如何製造而成的呢？ 本書詳盡解說了製造半導體的主要裝置，並介紹半導體
所有製程及其與使用裝置的關係，從實踐觀點專業分析半導體製造的整體架構，輔以圖解進行細部解析，幫助讀者建立系統化知識，深入了解裝置的構造、動作原理及性能。
全球光罩產業之SCP分析
為了解決光罩種類 的問題，作者楊雲龍 這樣論述：
光罩是微電子產品微影製程中的工作母板，是截至目前為止能讓大部份科技產品便宜的、快速的複製和有效率規模化的最重要工具。過去幾十年來專業半導體光罩業者在半導體先端技術牽動整個產業結構的變遷下已由過去全球數十家業者組成的完全競爭時代整併成以三、四家光罩業者為主的寡佔市場時代。然而在寡佔市場的這些專業半導體光罩廠(merchant mask shops)卻只佔了整體半導體光罩需求量的一半左右，一線晶片廠的自製光罩廠(captive mask shops)佔了另一半的市場需求。2010年至2013年全球半導體光罩市場規模約有30億美元左右，2014年成長至32億美元；平面顯示器光罩市場規模於201
4年成長至5.7億美元，預估2015~2018年的需求量約以年複合成長率3.6%的速度成長，而產值也會增長至2018年的6.3億美元。 本研究以經濟學者E.S.Mason，J.Bain的「結構-行為-績效」理論 (Structure – Conductive – Performance，以下簡稱SCP )架構來分析全球光罩產業的市場結構、廠商行為和績效，並佐以個案分析來探討國內外專業光罩廠商的營運模式，有別於過去對光罩產業的研究僅局限於技術和管理層面的探討。研究結果發現半導體和平面顯示器光罩產業的CR4都高於80%，HHI(10000s)數值都超過1900，皆屬於高度寡佔。然而光罩產業雖
屬寡占性行業但是又不同於大宗物資行業可以在寡佔情況下進行價格哄抬或勾結行為，因為專業光罩廠會受到自製光罩廠(如台積電等)的價格節制形成類似完全競爭的市場平衡。另外由個案分析我們了解到藉由強大的財務為後盾進行全球化購併與佈局是個案公司能成為全球最大專業光罩廠的重要策略之一。
攝影曝光 設計寶典
為了解決光罩種類 的問題，作者新知互動 這樣論述：
「由淺入深掌握各種應用技巧！ 易讀易懂，輕鬆學會攝影曝光！ 聽說過這麼一句話嗎？“曝光就是攝影。＂控制光的能力是拍攝出好作品的基礎。在日新月異的數位時代，越來越多的人開始拿起相機記錄周圍一切精彩的畫面。但真正能有幾人做到熟悉駕馭光線這一重要元素，保證在任何複雜的光線條件下都能做到快速、準確的曝光。事實證明，只有充分理解光線的性質、曝光的原理和技巧，這些看起來複雜的基本功，才能呈現光影的美麗。攝影藝術是依靠光影手段再現所表現的物件，實現攝影者創作構想的一種藝術形式。光與影的調動與運用，顯然極其重要。攝影曝光，是讓光與影轉化為形象與色彩的關鍵環節，所以曝光控制是攝影創作極為重要的一個環節
。 本書不但講解了曝光的基本要素：光圈、快門速度以及感光度三者之間的關係，還講解了數位相機上的各種測光模式、拍攝模式、閃光燈曝光、與曝光相關的器材，以及對不同光照曝光的控制，細緻地講述了與曝光有關的各種模式及曝光手法；對人像、風景以及特殊技巧的曝光做了大量的實例解析。根據主題、狀況、素材等進行分類後，詳細地介紹了每一種類型的曝光技巧，並且融入了拍攝者在實戰經驗中驗證了的攝影資料，從實際拍攝經驗出發，言簡意賅地向讀者介紹了在各種拍攝場景下如何進行曝光，並且分主題以不同的示例進行詳細說明。 本書內容豐富，結構清晰，詳細地分類、整理了曝光的技巧與方法，既有專業的理論，又有實用的拍攝技巧，
使讀者在閱讀後能夠應對各種複雜的拍攝情況。針對攝影者常見的拍攝題材，本書進行了詳解，讓讀者在正確理解曝光基礎上加以實踐性說明。相信透過本書的閱讀，讀者能切實感受到攝影曝光的真諦與數位攝影的無窮魅力。
應用邏輯運算在大尺寸光罩的選擇性線寬補償
為了解決光罩種類 的問題，作者翟家慧 這樣論述：
為了大量生產液晶顯示面板中的薄膜電晶體液晶顯示器(TFT-LCD)陣列和彩色濾光片，必須利用照相平版印刷(photolithography)技術，將光罩上的圖形轉換到液晶顯示面板基材上，因此光罩的精度對液晶顯示面板的品質具有決定性的影響。光罩製程簡單來說，是在石英基板上塗上光阻材料，利用雷射或電子束設備描繪出所需的各種圖形，並且進行顯影的製程，去除掉基板上已曝光的光阻材料，再透過蝕刻的製程，去除掉不被光阻材料覆蓋的鉻膜，最後再清洗殘留下來的光阻材料，最後便會依照鉻膜的線路，讓圖形留在玻璃基板上。面板製造廠，利用此光罩，當作生產液晶面板的母版，與照相原理相同，如同利用底片能夠洗出數千張之照片，
利用類似照相的原理，光為了大量生產液晶顯示面板中的薄膜電晶體液晶顯示器(TFT-LCD)陣列和彩色濾光片，必須利用照相平版印刷(photolithography)技術，將光罩上的圖形轉換到液晶顯示面板基材上，因此光罩的精度對液晶顯示面板的品質具有決定性的影響。光罩製程簡單來說，是在石英基板上塗上光阻材料，利用雷射或電子束設備描繪出所需的各種圖形，並且進行顯影的製程，去除掉基板上已曝光的光阻材料，再透過蝕刻的製程，去除掉不被光阻材料覆蓋的鉻膜，最後再清洗殘留下來的光阻材料，最後便會依照鉻膜的線路，讓圖形留在玻璃基板上。面板製造廠，利用此光罩，當作生產液晶面板的母版，與照相原理相同，如同利用底片能
夠洗出數千張之照片，利用類似照相的原理，光罩能夠在薄膜電晶體液晶顯示器的基材上產生電子迴路而實現大量生產。也如同底片品質的好壞會左右照片的品質般，光罩的品質，亦是左右液晶顯示面板品質的最主要關鍵。目前大尺寸高階光罩主要為GTM(Gray Tone Mask)光罩、HTM(Half Tone Mask)光罩及Slit光罩。高階光罩的趨勢為光罩尺寸越來越大，線寬與間隙的設計越來越細，且整片光罩的均勻度的要求越來越嚴格，這樣光罩製作困難度大增，因此在光罩描繪前的資料轉檔，須藉助特殊的圖形處理，來協助高階光罩的製作，以提高高階光罩的製作良率。而光罩蝕刻製程，其蝕刻速率不一致時，往往造成光罩之線寬均勻度
不佳，造成蝕刻速率不均因素很多，如圖形與圖形間之疏密程度、蝕刻機旋轉的速度、蝕刻機噴嘴的位置等。本研究著重在利用圖形補償並改善光罩的關鍵尺寸均勻度及精密度，利用邏輯運算的方法，從整片光罩圖形中找出需要特別做補償之特定圖形做適當的補償，再與原圖形整合，以彌補因圖形疏密不同所造成的蝕刻速率不均而導致的線寬誤差。