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包材清洗流程造成人員肌肉骨骼疲勞對清潔品質影響之研究-以某化學廠為例

為了解決半導體光罩製程ppt的問題，作者徐玫琴 這樣論述：

由於半導體產業快速的發展下，在電子化學品的品質需求越來越嚴謹，因此人員在清洗桶子的連續作業下，是否會因為疲勞而影響到桶子的潔淨度，並且間接影響到產品的品質，因此本研究主要在探討包材清洗流程造成人員肌肉骨骼疲勞對清潔品質的影響。 本研究利用肌電訊號量測人員的疲勞程度，收集兩位受測者上肢的肌群肌電訊號(Electromyography，EMG)以及執行重複性作業時的肌電訊號收集，然後二位受測者分別執行40桶的清洗實驗種，並且進行清洗桶子的六個主要施力動作，在第五桶、第十桶到最後的第四十桶的作業，每五桶分別進行肌電圖測試與數據收集。接著進行鹽酸充填後，量測充填後的品質驗證程序，驗證機台主要

使用感耦合電漿體質譜法檢測金屬離子(簡稱ICP-MS)，機型為ICP-MS 8900。 另外分析研究的主要方法，利用決定係數R2進行EMG與鹽酸品質分析，同時也使用KIM人工物料搬運檢核表確認作業風險等級。本研究結果顯示，在連續的作業下，人員的疲勞程度增加與品質的影響是有正相關，另外在作業風險等級為中負荷作業，故建議包材清洗流程上午與下午不同的作業人員，可降低作業人員在進行作業時疲勞累積所造成的品質影響。

智慧操控紫外光二極體發光功率

為了解決半導體光罩製程ppt的問題，作者陳敬樺 這樣論述：

目錄摘要Abstract iii致謝 v圖目錄 ix表目錄 xii第一章 導論 11.1 緒論 11.2 文獻回顧與研究動機 31.3 市售紫外光偵測器介紹 14第二章 光偵測器理論介紹 182.1 光偵測器工作原理 182.2 光偵測器架構分類 212.2.1 p-n接面光二極體(p-n Photodiode) 222.2.2 p-i-n接面光電二極體(p-i-n Photodiode) 252.2.3 蕭基位障光電二極體(Schottky Barrier Photodiode)

292.2.4 雪崩型光二極體(Avalanche Photodiode) 312.2.5 異質接面雪崩光二極體 342.2.6 光電晶體 362.3 光偵測器檢測參數 382.3.1 量子效率(Quantum Efficiency, QE) 382.3.2 響應率(Responsivity, R) 412.3.3 響應速度(Response Speed) 42第三章 Arduino與MIT App Inventor 2介紹 433.1 Arduino介紹 433.2 Arduino Uno Rev3 473.3

HC-05藍牙模組 493.4 MIT App Inventor 2 52第四章 元件設計與儀器介紹 544.1 元件設計與製作 544.2 元件製程 564.2.1活化製程(Activation) 584.2.2絕緣製程(Isolation) 594.2.3高台圖型製程(MESA) 614.2.4二氧化矽絕緣層沉積 624.2.5 ITO透明導電層沉積 634.2.6 N&P型電極沉積 644.3 製程儀器介紹 654.3.1旋轉塗佈機(Spin Coater) 654.3.2光罩對準機

(Mask Aligner) 664.3.3電漿輔助化學氣相沉積系統 684.3.4感應耦合電漿式離子蝕刻機(ICP-RIE) 704.3.5射頻濺鍍機(RF Sputter) 724.3.6電子束蒸鍍機(E-beam Evaporator) 744.3.7快速升溫退火爐(Rapid thermal annealing, RTA) 754.4 量測儀器介紹 764.4.1表面輪廓儀(Alpha step) 764.4.2 L-I與I-V量測系統 774.4.3外部量子效率量測系統 784.4.4脈衝式雷射二極體LIV系統 794

.4.5電源供應器(Source Meter) 81第五章 結果與討論 845.1 積體化MPD監控光偵測器 845.1.1 UV LED基本光電特性 845.1.2 MPD監控光偵測器基本特性 875.1.3 MPD監控光偵測器監控響應率 925.1.4監控光偵測器與運算放大器電路設計 965.2 Arduino遠端操控模組 975.2.1遠端操控系統架構圖 975.2.2 Arduino程式碼 985.2.3 App inventor 2程式碼 1025.3 模組電路量測結果與討論 1075.3.1

模組電路圖 1075.3.2 驅動UV LED 實際結果與討論 108第六章 結論與未來展望 1126.1 結論 1126.2 未來展望 114參考文獻 115