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明新科技大學 化學工程與材料科技系碩士班 李靜宜所指導 黃俊程的 光電半導體製程中 光阻剝離液之主成份分析 （2017），提出finish line除油劑關鍵因素是什麼，來自於光阻剝離液、乙醇胺、二甲基亞碸、近紅外光光譜法、液相層析法、氣相層析法。
而第二篇論文聖約翰科技大學 機械與電腦輔助工程系碩士班 張瑞慶、黃金榮所指導 黃英豪的 可撓性硒化銅銦鎵薄膜太陽能電池 吸收層不同堆疊法之研究 （2014），提出因為有 硒化銅銦鎵、太陽能電池、吸收層的重點而找出了 finish line除油劑的解答。
光電半導體製程中 光阻剝離液之主成份分析
為了解決finish line除油劑 的問題，作者黃俊程 這樣論述：
近紅外光光譜法近年來已經被大量使用於農產品組成的檢測分析。由於近紅外光光譜法分析快速、無破壞性的特性，具有作為線上分析監測工具的潛力，近年來也開始被使用於蝕刻液監測分析。光阻剝離液和蝕刻液同樣為應用在半導體產業和光電產業陣列製程中重要的化學品之一，光阻剝離液在完成金屬或半導體薄膜線路之蝕刻製程後，作為去除光阻之用。在去光阻製程中，影響產品良率的製程條件包括環境、藥液、時間等。為了節省化學品用量，減少廢液產出，光阻剝離液重複使用在業界已為常態。因此，如何監測與調控重複使用的藥液組成，對產品良率的維持與提升相當重要。 本研究以建立主要成分為乙醇胺和二甲基亞碸的光阻剝離液之傅立葉轉換
近紅外光光譜法測量條件及分析方法為目標，並以高效液相層析法和氣相層析法比對傅立葉轉換近紅外光光譜法的測量結果，探討以傅立葉轉換近紅外光光譜法線上監測光阻剝離液化學組成的可行性。 本研究以乙醇胺濃度範圍40~90%、二甲基亞碸濃度範圍10~60%的模擬光阻剝離液為訓練樣本，利用偏最小平方法建立傅立葉轉換近紅外光光譜法的分析模型，並以市售光阻剝離液TOK106及不同使用程度的TOK106進行驗證。結果顯示，以傅立葉轉換近紅外光光譜法測得之乙醇胺和二甲基亞碸濃度與高效液相層析法、氣相層析法相近。使用這三種分析方法對一系列不同使用程度的TOK106樣品進行組成分析，結果顯示三種方法所測的之乙醇胺和
二甲基亞碸濃度變化趨勢相符。由此證明，近紅外光光譜法具有作為線上監測以乙醇胺和二甲基亞碸為主要成分之光阻剝離液化學組成分析工具之潛力。關鍵字：光阻剝離液、乙醇胺、二甲基亞碸、近紅外光光譜法、液相層析法、氣相層析法
可撓性硒化銅銦鎵薄膜太陽能電池 吸收層不同堆疊法之研究
為了解決finish line除油劑 的問題，作者黃英豪 這樣論述：
CIGS（硒化銅銦鎵）薄膜型太陽能電池，有著高吸收係數的特性，因此在能源問題浮現的現代，備受大家關注。本文針對CIGS薄膜之不同堆疊製程進行研究探討，先以直流濺鍍法將Mo薄膜沈積於不鏽鋼基材上，再利用三明治堆疊法(In/CuGa/In)沈積CuGa及In作為前驅物層，再以高溫爐進行三階段硒化，使前驅物與Se結合形成CIGS吸收層。並探討不同堆疊方式的前驅物製程對CIGS的影響，然後將沈積好的薄膜，先以SEM電子顯微鏡及X光能譜分析儀觀看表面結構及成份分析，接著以3D表面輪廓儀量測表面粗造度，再以X光繞射儀量測晶體結構強度。緩衝層是以原子束蒸鍍機製備ZnS薄膜再量測光穿透率，透明導電層是以濺鍍
機以及ALD進行AZO薄膜沈積，再量測光穿透率以及電性。最後是以三明治堆疊法(In 600 nm / CuGa 300 nm / In 600 nm)這組試片，Cu/(In+Ga) ratio (0.941)接近做為太陽能電池元件，晶體結構2θ約26.97 ∘的 ( 112 ) 波峰的晶體結構強度約59875(cps)是最佳的，緩衝層ZnS光穿透率最高為75.43%，透明導電層是以ALD製備的AZO光穿透率最高為85.46%，在量測電性方面，以In 600 nm / CuGa 300 nm / In 600 nm這組電性最佳。