euv原理的問題，透過圖書和論文來找解法和答案更準確安心。 我們找到下列問答集和資訊懶人包

看圖讀懂半導體製造裝置

為了解決euv原理的問題，作者菊地正典 這樣論述：

　　清華大學動力機械工程學系教授 羅丞曜  審訂 　　得半導體得天下？ 　　要想站上世界的頂端，就一定要了解什麼是半導體！ 　　半導體可謂現在電子產業的大腦，從電腦、手機、汽車到資料中心伺服器，其中具備的智慧型功能全都要靠半導體才得以完成，範圍廣布通信、醫療保健、運輸、教育等，因此半導體可說是資訊化社會不可或缺的核心要素！ 　　半導體被稱為是「產業的米糧、原油」，可見其地位之重要 　　臺灣半導體產業掌握了全球的科技，不僅薪資傲人，產業搶才甚至擴及到了高中職！ 　　但，到底什麼是半導體？半導體又是如何製造而成的呢？ 　　本書詳盡解說了製造半導體的主要裝置，並介紹半導體

所有製程及其與使用裝置的關係，從實踐觀點專業分析半導體製造的整體架構，輔以圖解進行細部解析，幫助讀者建立系統化知識，深入了解裝置的構造、動作原理及性能。

euv原理進入發燒排行的影片

EUV應用於TFT-LCD濕蝕刻製程的金屬殘留缺陷改善之研究

為了解決euv原理的問題，作者李南暹 這樣論述：

實務上在薄膜電晶體液晶顯示器的金屬濕蝕刻製程中，常利用準分子紫外光去除附著在基板上的油污或有機物，以降低基板上的純水接觸角，使鋁蝕刻溶液能更容易地附著在基板表面進行蝕刻，且能避免被濕蝕刻過程中產生的氣泡附著在基板上，如此可以減少濕蝕刻後金屬殘留缺陷的產生。但是受限於對設備產出速度的要求，顯現出準分子紫外光設備的效能不足，所以基板經過濕蝕刻後的金屬殘留缺陷數仍有過高的問題。故本研究利用純水接觸角量測儀、不同金屬沉積和塗佈光阻後的基板，配合在準分子紫外光照射設備與基板間加入氮氣的改造，進行實驗。結果顯示三種膜質（Al、Mo、PR）的基板經由準分子紫外光照射的積算光量越大，其基板表面的純水接觸角會

越小，但經過靜置後其基板表面的純水接觸角會慢慢變大，其中靜置時間在6小時以內的純水接觸角退化速度是最快的，之後靜置6至24小時的退化速度將會趨緩。此外，基板經過加入氮氣改善後的準分子紫外光照射設備的照射，可以使基板上的純水接觸角降低達90.9 ％，比起照射未改善前的準分子紫外光照射設備後的純水接觸角，降幅增加了71.8 %，並可以使恰當蝕刻時間減少約4.54秒，因而降低物理氣相沉積製程造成的奇、偶數片膜厚不同且不均的負面影響，進而能加快設備的產出時間。之後我們利用六代產線進行為期一週，樣品數約為21,223片的驗證，得到在準分子紫外光照射設備與基板間加入氮氣的改善，能在不降低基板傳送速度而影響

設備產出時間的情況下，讓基板表面的純水接觸角降至10度以下，使濕蝕刻後的金屬殘留缺陷數降低達75 %，良率大約從99.2 %提升到99.28 %，而且之後抽樣檢測率、第五道製程後的雷射修補率、缺陷影像檢視人力、因拔膜重工所耗損的生產原料、薄膜電晶體液晶顯示器的陣列製程產出週期等，都可以降低。也證明基板表面的純水接觸角越低，在濕蝕刻製程中造成的金屬殘留缺陷也會越低。

半導體：手機、電腦不可或缺的基本元件，來認識推展現代社會的中堅分子!

為了解決euv原理的問題，作者菊地正典 這樣論述：

　　手機、電腦不可或缺的基本元件，　　來認識推展現代社會的中堅分子！ 　　徹底瞭解！半導體的性質、作用，以及其中的原理，新型記憶體、微影技術的開發……半導體與未來息息相關！ 　　電腦內的CPU、記憶體，到最近的智能家電、汽車……等，幾乎所有產品都搭載了半導體元件和積體電路。半導體和積體電路是許多技術者夜以繼日進行改良之後所得到的先端技術結晶，可以說是從人類的智慧衍生而出，最夯也最具代表性的產品。 　　為了用最淺顯易懂的方法向各位解說半導體的全貌，本書以文字搭配圖片的解說方式，重點式的介紹半導體的各種機能、製造方法、特徵。相信透過了解半導體，一定可以讓各位看到另一個嶄新的世界。 本書特色 　

　解說深入淺出，適合普羅大眾閱讀。　　搭配彩色圖解與生動比喻，專業知識輕鬆學。　　內容全面，半導體的基礎知識、積體電路、IC的設計以及尖端技術均有說明。 作者簡介 菊地正典 　　1968年畢業於東京大學工學部物理工學科。進入日本電氣有限公司就職以來，一直從事半導體的裝置．處理開發業務。有了半導體的生產經驗後，在該公司任職半導體事業團體主席技師長、NEC電子裝置主席技師長。2002年開始擔任社團法人日本半導體製造裝置協會專務理事，2007年成為半導體能源研究所（有限公司）的顧問。著有「電學」……等書。