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Si refractive index的問題，透過圖書和論文來找解法和答案更準確安心。 我們找到下列問答集和資訊懶人包
國立中正大學 機械工程系研究所 鄭志鈞、劉建聖所指導 張育豪的 四軸FSM之光學與馬達的設計與整合 （2021），提出Si refractive index關鍵因素是什麼，來自於雷射穩源系統、快速偏擺鏡、Double PORRO稜鏡、音圈馬達、四自由度致動器。
而第二篇論文國立中山大學 光電工程學系研究所 王俊達所指導 徐子軒的 利用標準CMOS製程來開發並製作低損耗氮化矽波導 （2021），提出因為有 氮化矽、平面波導、矽光子、邊緣耦光、波導損耗的重點而找出了 Si refractive index的解答。
四軸FSM之光學與馬達的設計與整合
為了解決Si refractive index 的問題，作者張育豪 這樣論述：
隨著科技進步，雷射光源被廣泛應用於各種不同的領域，其相關產業皆生產高品質與高精密之高單價產品。因此近年來雷射光源在全世界的產值持續攀升。許多研究顯示，雷射光源之精度與穩定度不僅受到外在環境溫度、震動所影響，也會受到本身之結構、熱源及輸入源等影響，故克服上述之問題使得雷射光源品質提升是當務之急。因此fast steer mirror (FSM)被發明以提升雷射品質，但傳統的FSM雷射穩源系統具有光程過長、過多零件，不適用架設於狹窄的空間。因此本論文提出一新型四自由度FSM雷射穩系統以改善傳統FSM雷射穩源系統之缺點並提升其性能。本論文使用光學分析軟體Zemax來設計與分析四自由度FSM雷射穩系
統之光學系統，使用歪斜光線追跡法來建立穩源系統之演算法，並透過市售六軸史都華平台與建立之雛型品來驗證新型FSM雷射穩源系統之可行性。其實驗結果顯示，本論文提出的新型FSM雷射穩源系統具備量測與補償雷射源四自由度誤差之功能。在初步驗證完四自由度FSM雷射穩系統之可行性後，本論文提出一四自由度voice coil motor(VCM)並與Double Porro FSM系統整合，透過有限元素分析軟體Magnet及ANSYS來分析與設計其機械與電磁結構。最後本論文建立了一完整的四自由度FSM雛型品並透過實驗驗證其性能。本論文之研究內容已在國際研究期刊發表了兩篇論文(請參考附件)，為避免本論文與發表的
期刊有過多重複，因此本論文內文有做過刪減。
利用標準CMOS製程來開發並製作低損耗氮化矽波導
為了解決Si refractive index 的問題，作者徐子軒 這樣論述：
矽光子學為基於絕緣層上的矽晶片基板平台來實現高密度光子與電子元件積體整合電路的技術，其優勢為能夠整合半導體製程技術達到低成本的優勢，並結合光通訊的高頻寬、長距離傳輸和高抗電磁干擾特性。目前矽光子主要以矽材料為主，但在晶片上需要因應不同的需求，新型材料的研發對拓展矽光子應用領域極為重要。其中針對波導損耗考量，雖然矽的高折射率對比特性能夠實現小尺寸波導結構，但是對製程精準容忍度比較低。許多研究團隊選擇使用氮化矽作為波導的主要材料；在光學特性上氮化矽波導的折射率對比度略低於矽波導，具備較高的製程容忍度以及較低的光學損耗。此外，氮化矽於可見光和近紅外區域的吸收極低，因此能夠實現可見光以及近紅外光積體
光電元件。本研究論文目標為利用國家實驗研究院台灣半導體研究中心齊全的半導體產線來開發氮化矽波導平台並且製作低損耗氮化矽波導，希望藉由改善製程條件跟波導設計來實現低光學損耗特性。製程方面主要針對薄膜沉積跟蝕刻製程進行優化，我們利用三種氣相沉積薄膜機台來成長氮化矽薄膜，並且實際製作氮化矽波導。蝕刻製程則藉由優化蝕刻參數以及氧化濕蝕刻的方法來降低波導側壁的粗糙度，使其更加平滑。接著透過邊緣耦合和光學頻域反射儀兩種方式進行光學損耗量測，來比較不同薄膜下氮化矽波導的光學損耗。由量測結果顯示低壓化學氣相沉積系統於製作厚度為300奈米的氮化矽波導有較佳的光學損耗約3 dB/cm。進一步，我們也設計不同厚度的
單模波導結構，希望藉由扁平波導的設計來降低光於波導內傳播時，由於波導側壁的粗糙所導致的散射損耗。結果顯示300 跟200 奈米厚度氮化矽波導是相近，而100 奈米厚度波導由於量測插入損耗過大，而難以推算出其傳輸損耗。本論文已經成功利用台灣半導體研究中心設備建立氮化矽波導平台，並能夠成功的製作出傳播損耗為2-3 dB/cm的氮化矽波導，未來將會針對熱退火製程以及扁平波導的設計去進一步的降低其光學損耗。