電熱式local scrubber的問題，透過圖書和論文來找解法和答案更準確安心。 我們找到下列問答集和資訊懶人包

利用實驗設計法改善廢氣處理設備排放濃度 最佳參數設定

為了解決電熱式local scrubber的問題，作者楊東霖 這樣論述：

由於半導體業的蓬勃發展，大量的化學物質被應用於半導體業上，而CVD化學薄膜製程一直是半導體廠中一道重要的製程，被用來沉積出某種薄膜(film) 的技術，而此道製程必須使用大量NF3 gas clean chamber，NF3在半導體業是被定義必須處理的氣體，而處理方式為利用local scrubber作為污染防治設備。但半導體業遇到另一個問題，在廢氣處理設備處理NF3過程反應會產生F2副產物而最終將經由煙囪排放到周界環境，F2不僅為毒性氣體更會產生惡臭其嗅覺閥值為0.1ppm，因此我們在半導體廠區周圍常常被反應異味時此F2就是主要兇手之一。為了協助A公司解決local scrubber ou

tlet & stack F2排放問題，本研究針對電熱式local scrubber處理NF3過程影響去除效率因素，並利用2K-p部分因子實驗設計法規劃實驗，以變異數分析分析實驗數據，找到關鍵因子之後再進行3K全因子實驗數據得到最佳因子水準組合設定，能又效的降低local scrubber outlet F2進而使煙囪排放濃度降低使異味問題減少，此效果對環境有更大的保障並且降低這些毒性氣體排放到環境影響人體健康。本論文以台灣某半導體廠為例(A公司)提供之G廠牌local scrubber安裝於CVD區域的污染防治設備做為實驗機台，驗證了本研究方法確實有效可行，本研究方法將可提供給其他公司做為參

考學習的範例，並也期望應用於不同process local scrubber。