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這兩本書分別來自世茂 和電子工業出版社所出版 。

國立中央大學 工業管理研究所在職專班 沈國基所指導 洪珮瑜的 運用機器學習方法研究馬達初始參數設計問題(以R公司為例) (2020),提出計算機e換算關鍵因素是什麼,來自於機器學習、資料探勘、迴歸分析、馬達設計。

而第二篇論文國立陽明大學 生物醫學影像暨放射科學系 陳志成所指導 陳至豪的 基於放射組學分析的輔助腫瘤辨識在正子斷層暨電腦斷層掃描影像和正子暨磁振斷層掃描整合系統中的應用 (2019),提出因為有 放射組學、影像組學、紋理特徵分析、正子斷層造影、醫學影像分類的重點而找出了 計算機e換算的解答。

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接下來讓我們看這些論文和書籍都說些什麼吧:

除了計算機e換算,大家也想知道這些:

懶人圖解統計學:統整複雜數據,看穿大數據背後真相

為了解決計算機e換算的問題,作者今野紀雄 這樣論述:

擁有統計力,就能提升解決問題的能力 用圖像思考分析「現在」,用數學邏輯演算「未來」 用最不燒腦的方式學習統計學! 【設計生活化情境題】+【資料視覺化】+【專有名詞變白話】     一看就懂的統計學新手入門書   就算「沒有統計知識」也沒關係!   從基本原理開始,一點一點詳細說明   快速掌握必備觀念,輕鬆漫遊大數據時代     統計學哪裡只是公式運算,更是生活的準則、日常的指標!   ★擲骰子、丟硬幣、中樂透,遊戲輸贏一瞬間,人生賽局是命運還是機會?   ★調查收視率可以掌握市場變化,看準投資方向一點也不難!   ★拚經濟跟統計有關,玩政治也跟統計有關,一切都在計算之中!   ★數據展現

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計學為自身的力量吧!   專業推薦     淡江大學統計學系教授 林志娟審訂推薦   統計學博士 程毅豪 誠心推薦

運用機器學習方法研究馬達初始參數設計問題(以R公司為例)

為了解決計算機e換算的問題,作者洪珮瑜 這樣論述:

為改善現今變頻馬達開發的過程當中,新馬達參數設計模式,一直依賴開發人員的個人設計經驗進行參數設定,造成同樣的馬達可能會因為開發人員的想法不同而有不同的參數組合,並且不斷的微調馬達設計參數以達到最佳化設計,使馬達開發階段的設計參數與測試驗證組合變得相當繁雜,因而導致開發時程一再延宕。本研究希望透過機器學習之資料探勘的方式,顛覆現今的設計模式,建立馬達參數設計評估的模型,藉由R公司的馬達產品於開發階段所彙整的參數資料,作為研究數據集,選取與參數設計相關的重要特徵,作為建立模型的訓練與測試用,分別使用隨機森林、多輸出(向量)、梯度提升、多層感知器等四種迴歸模型進行預測,再經由網格搜尋與交叉驗證演算

法對迴歸模型進行自動調參,透過模型的準確率與迴歸評估指標進行模型選用,找出適合本研究使用的迴歸模型,藉由全因子實驗設計模型並採用歐幾里得距離量測的演算法的預測,在給定目標值後,找出與目標值最接近的馬達設計參數,以縮短馬達設計驗證時程,並可以提供馬達設計參考之方向。藉由迴歸評估指標結果顯示,以網格搜尋(隨機森林) 迴歸模型所呈現的預測模型的準確率達91%以上,整體解釋力達91%以上,調整後的模型解釋力達90%,因此本研究選取自動調參的隨機森林迴歸模型進行參數選用,透過實驗設計模型並採用歐幾里得距離量測的演算法的預測,平均可減少2到4次的馬達設計驗證次數,換算下來約可省掉40%的工程天數。另對於網

格搜尋(隨機森林) 迴歸模型設定不熟悉的人員,在使用設定上較為簡易,可利用預測模型的評估,協助開發人員提升開發速度,縮短馬達設計與驗證測試時程,以期達成客戶要望。

半導體物理與器件=Semiconductor Physics and Devices:Basic Principles,Fourth Edition:英文版

為了解決計算機e換算的問題,作者(美)唐納德·A.尼曼 著 這樣論述:

《國外電子與通信教材系列:半導體物理與器件(第四版)(英文版)》是微電子技術領域的基礎教程。全書涵蓋了量子力學、固體物理、半導體材料物理及半導體器件物理等內容,分成三部分,共15章。第壹部分為半導體材料屬性,主要討論固體晶格結構、量子力學、固體量子理論、平衡半導體、輸運現象、半導體中的非平衡過剩載流子;第二部分為半導體器件基礎,主要討論pn結、pn結二極管、金屬半導體和半導體異質結、金屬氧化物半導體場效應晶體管、雙極晶體管、結型場效應晶體管;第三部分為專用半導體器件,主要介紹光器件、半導體微波器件和功率器件等。書中既講述了半導體基礎知識,也分析討論了小尺寸器件物理問題,具有一定的深度和廣度。另

外,全書各章難點之后均列有例題、自測題,每章末尾均安排有復習要點、重要術語解釋及知識點。美國新墨西哥大學電氣與計算機工程系教授,於新墨西哥大學獲博士學位后,成為Hanscom空軍基地固態科學實驗室電子工程師。1976年加入新墨西哥大學電氣與計算機工程系,從事半導體物理與器件課程和電路課程的教學工作。目前仍為該系的返聘教員。出版過Microelectronics Circuit Analysis and Design, Fourth Edition和An Introduction to Semiconductor Devices兩本教材。 第一部分 半導體材料屬性第1章固體晶

格結構11.0預習11.1半導體材料11.2固體類型21.3空間晶格31.3.1原胞和晶胞31.3.2基本的晶體結構41.3.3晶面和密勒指數61.3.4晶向91.4金剛石結構101.5原子價鍵121.6固體中的缺陷和雜質141.6.1固體中的缺陷141.6.2固體中的雜質161.7半導體材料的生長171.7.1在熔融體中生長171.7.2外延生長191.8小結20重要術語解釋20知識點21復習題21習題21參考文獻24第2章量子力學初步252.0預習252.1量子力學的基本原理252.1.1能量量子化262.1.2波粒二相性272.1.3不確定原理302.2薛定諤波動方程312.2.1波動方

程312.2.2波函數的物理意義322.2.3邊界條件332.3薛定諤波動方程的應用342.3.1自由空間中的電子352.3.2無限深勢阱362.3.3階躍勢函數392.3.4勢壘和隧道效應442.4原子波動理論的延伸462.4.1單電子原子462.4.2周期表502.5小結51重要術語解釋51知識點52復習題52習題52參考文獻57第3章固體量子理論初步583.0預習583.1允帶與禁帶583.1.1能帶的形成593.1.2克龍尼克—潘納模型633.1.3k空間能帶圖673.2固體中電的傳導723.2.1能帶和鍵模型723.2.2漂移電流743.2.3電子的有效質量753.2.4空穴的概念7

83.2.5金屬、絕緣體和半導體803.3三維擴展833.3.1硅和砷化鎵的k空間能帶圖833.3.2有效質量的補充概念853.4狀態密度函數853.4.1數學推導853.4.2擴展到半導體883.5統計力學913.5.1統計規律913.5.2費米—狄拉克概率函數913.5.3分布函數和費米能級933.6小結98重要術語解釋98知識點99復習題99習題100參考文獻104第4章平衡半導體1064.0預習1064.1半導體中的載流子1064.1.1電子和空穴的平衡分布1074.1.2n0方程和p0方程1094.1.3本征載流子濃度1134.1.4本征費米能級位置1164.2摻雜原子與能級1184

.2.1定性描述1184.2.2電離能1204.2.3III—V族半導體1224.3非本征半導體1234.3.1電子和空穴的平衡狀態分布1234.3.2n0和p0的乘積1274.3.3費米—狄拉克積分1284.3.4簡並與非簡並半導體1304.4施主和受主的統計學分布1314.4.1概率函數1314.4.2完全電離與束縛態1324.5電中性狀態1354.5.1補償半導體1354.5.2平衡電子和空穴濃度1364.6費米能級的位置1414.6.1數學推導1424.6.2EF隨摻雜濃度和溫度的變化1444.6.3費米能級的應用1454.7小結147重要術語解釋148知識點148復習題149習題14

9參考文獻154第5章載流子輸運現象1565.0預習1565.1載流子的漂移運動1565.1.1漂移電流密度1565.1.2遷移率1595.1.3電導率1645.1.4飽和速度1695.2載流子擴散1725.2.1擴散電流密度1725.2.2總電流密度1755.3雜質梯度分布1765.3.1感生電場1765.3.2愛因斯坦關系1785.4霍爾效應1805.5小結183重要術語解釋183知識點184復習題184習題184參考文獻191第6章半導體中的非平衡過剩載流子1926.0預習1926.1載流子的產生與復合1936.1.1平衡態半導體1936.1.2過剩載流子的產生與復合1946.2過剩載流

子的性質1986.2.1連續性方程1986.2.2與時間有關的擴散方程1996.3雙極輸運2016.3.1雙極輸運方程的推導2016.3.2摻雜及小注入的約束條件2036.3.3雙極輸運方程的應用2066.3.4介電弛豫時間常數2146.3.5海恩斯—肖克萊實驗2166.4准費米能級2196.5過剩載流子的壽命2216.5.1肖克萊—里德—霍爾復合理論2216.5.2非本征摻雜和小注入的約束條件2256.6表面效應2276.6.1表面態2276.6.2表面復合速度2296.7小結231重要術語解釋231知識點232復習題233習題233參考文獻240第二部分 半導體器件基礎第7章pn結2417

.0預習2417.1pn結的基本結構2417.2零偏2437.2.1內建電勢差2437.2.2電場強度2467.2.3空間電荷區寬度2497.3反偏2517.3.1空間電荷區寬度與電場2517.3.2勢壘電容(結電容)2547.3.3單邊突變結2567.4結擊穿2587.5非均勻摻雜pn結2627.5.1線性緩變結2637.5.2超突變結2657.6小結267重要術語解釋268知識點268復習題269習題269參考文獻275第8章pn結二極管2768.0預習2768.1pn結電流2768.1.1pn結內電荷流動的定性描述2778.1.2理想的電流—電壓關系2788.1.3邊界條件2798.1.

4少數載流子分布2838.1.5理想pn結電流2868.1.6物理學小結2908.1.7溫度效應2928.1.8短二極管2938.2產生—復合電流和高注入級別2958.2.1產生復合電流2968.2.2高級注入3028.3pn結的小信號模型3048.3.1擴散電阻3058.3.2小信號導納3068.3.3等效電路3138.4電荷存儲與二極管瞬態3148.4.1關瞬態3158.4.2開瞬態3178.5隧道二極管3188.6小結321重要術語解釋322知識點322復習題323習題323參考文獻330第9章金屬半導體和半導體異質結3319.0預習3319.1肖特基勢壘二極管3319.1.1性質上的特

征3329.1.2理想結的特性3349.1.3影響肖特基勢壘高度的非理想因素3389.1.4電流—電壓關系3429.1.5肖特基勢壘二極管與pn結二極管的比較3459.2金屬—半導體的歐姆接觸3499.2.1理想非整流接觸勢壘3499.2.2隧道效應3519.2.3比接觸電阻3529.3異質結3549.3.1形成異質結的材料3549.3.2能帶圖3549.3.3二維電子氣3569.3.4靜電平衡態3589.3.5電流—電壓特性3639.4小結363重要術語解釋364知識點364復習題365習題365參考文獻370第10章金屬—氧化物—半導體場效應晶體管基礎37110.0預習37110.1雙端M

OS結構37110.1.1能帶圖37210.1.2耗盡層厚度37610.1.3面電荷密度38010.1.4功函數差38210.1.5平帶電壓38510.1.6閾值電壓38810.2電容—電壓特性39410.2.1理想C—V特性39410.2.2頻率特性39910.2.3固定柵氧化層電荷和界面電荷效應40010.3MOSFET基本工作原理40310.3.1MOSFET結構40310.3.2電流—電壓關系——概念40410.3.3電流—電壓關系——數學推導41010.3.4跨導41810.3.5襯底偏置效應41910.4頻率限制特性42210.4.1小信號等效電路42210.4.2頻率限制因素和截

止頻率42510.5CMOS技術42710.6小結430重要術語解釋431知識點432復習題432習題433參考文獻441第11章金屬—氧化物—半導體場效應晶體管:概念的深入44311.0預習44311.1非理想效應44311.1.1亞閾值電導44411.1.2溝道長度調制效應44611.1.3遷移率變化45011.1.4速度飽和45211.1.5彈道輸運45311.2MOSFET按比例縮小理論45511.2.1恆定電場按比例縮小45511.2.2閾值電壓——一級近似45611.2.3全部按比例縮小理論11.3閾值電壓的修正11.3.1短溝道效應11.3.2窄溝道效應11.4附加電學特性11.

4.1擊穿電壓11.4.2輕摻雜漏晶體管11.4.3通過離子注入進行閾值調整11.5輻射和熱電子效應11.5.1輻射引入的氧化層電荷11.5.2輻射引入的界面態11.5.3熱電子充電效應11.6小結重要術語解釋知識點復習題習題參考文獻第12章雙極晶體管12.0預習12.1雙極晶體管的工作原理12.1.1基本工作原理12.1.2晶體管電流的簡化表達式12.1.3工作模式12.1.4雙極晶體管放大電路12.2少子的分布12.2.1正向有源模式12.2.2其他工作模式12.3低頻共基極電流增益12.3.1有用的因素12.3.2電流增益的數學表達式12.3.3小結12.3.4電流增益的計算12.4非理

想效應12.4.1基區寬度調制效應12.4.2大注入效應12.4.3發射區禁帶變窄12.4.4電流集邊效應12.4.5基區非均勻摻雜的影響12.4.6擊穿電壓12.5等效電路模型12.5.1Ebers—Moll模型12.5.2Gummel—Poon模型12.5.3H—P模型12.6頻率上限12.6.1延時因子12.6.2晶體管截止頻率12.7大信號開關12.7.1開關特性12.7.2肖特基鉗位晶體管12.8其他的雙極晶體管結構12.8.1多晶硅發射區雙極結型晶體管12.8.2SiGe基區晶體管12.8.3異質結雙極晶體管12.9小結重要術語解釋知識點復習題習題參考文獻第13章結型場效應晶體管1

3.0預習13.1JFET概念13.1.1pnJFET的基本工作原理13.1.2MESFET的基本工作原理13.2器件的特性13.2.1內建夾斷電壓、夾斷電壓和漏源飽和電壓13.2.2耗盡型JFET的理想直流I—V特性13.2.3跨導13.2.4MESFET13.3非理想因素13.3.1溝道長度調制效應13.3.2飽和速度影響13.3.3亞閩值特性和柵電流效應13.4等效電路和頻率限制13.4.1小信號等效電路13.4.2頻率限制因子和截止頻率13.5高電子遷移率晶體管13.5.1量子阱結構13.5.2晶體管性能13.6小結重要術語解釋知識點復習題習題參考文獻……第三部分 專用半導體器件附錄A

部分參數符號列表附錄B單位制、單位換算和通用常數附錄C元素周期表附錄D能量單位——電子伏特附錄E薛定諤波動方程的推導附錄F有效質量概念附件G誤差函數附錄H部分習題參考答案索引 出版本書第四版的目的在於將有關半導體器件的特性、工作原理及其局限性的基礎知識介紹給讀者。要想更好地理解這些基礎知識,就必須對半導體材料物理知識進行全面的了解。本書有意將量子力學、固體量子理論、半導體材料物理和半導體器件物理綜合在一起,因為所有這些理論對了解當今半導體器件的工作原理及其未來的發展是非常重要的。

基於放射組學分析的輔助腫瘤辨識在正子斷層暨電腦斷層掃描影像和正子暨磁振斷層掃描整合系統中的應用

為了解決計算機e換算的問題,作者陳至豪 這樣論述:

[研究動機與目的]18F-FDG PET是利用氟代去氧葡萄糖(2-deoxy-2-[18F]fluoroglucose, FDG)標定進行正子斷層攝影(positron emission tomography, PET)的檢查,具有很高的專一性和敏感性,是篩檢腫瘤的良好工具。近年來,18F-FDG PET已然成為癌症篩檢的重要常規項目。臨床醫生通常通過參考半定量指標之標準攝取值(standard-ized uptake value, SUV,正常臨界值為2.5 g / ml)來進行診斷。但是部分器官對於FDG先天上的高代謝特性,增加病變器官診斷上的困難,單獨依靠SUV無法進行確定診斷,例如肝

和腦(SUV通常> 2.5 g / mL)。患者通常需要額外進行多種檢查,並依靠資深臨床醫生的經驗和判斷才能進行正確診斷。此外,18F-FDG PET同時也是一項昂貴的檢查,每次掃描的費用約為1500〜2000美元。因此,為了提高18F-FDG PET檢查的效益,以及盡快確認惡性腫瘤患者的診斷(減少檢查項目),使患者能儘早進入治療療程。我們的目的便是利用影像紋理特徵分析技術(放射組學或影像組學,radiomics)來協助惡性腫瘤的診斷。[研究方法與材料]在這項研究中,模擬了肝臟,腦部和肺部等三個器官,並使用PET/CT和PET/MR掃描儀分別掃描各種假體取得影像。我們同時使用商業假體(腦)和3

D列印模型假體(肝臟和肺臟)來進行影像紋理特徵分析實驗,期望能建立區分18F-FDG PET影像中的健康器官、病變器官或不同的腫瘤發展期程的分類方法(模型)。最後利用部分臨床癌症患者的影像來測試分類模型。研究中的實驗操作方法包含兩個不同部分,包括使用免費軟體LIFEx和人工選擇特徵的半自動分析;以及進一步將半自動分析結果作為加權因子的監督式卷積類神經網絡(CNN)深度學習(DL)進行的自動分析。[實驗結果]我們的結果顯示,影像紋理特徵分析技術對於診斷18F-FDG PET影像中的腫瘤有很高的利用價值,透過它可以正確地區分健康和病變的器官影像。特別是在肝臟影像實驗中,它可以區分正常的肝組織、囊腫

、肝腫瘤塊和壞疽性腫瘤。對於假體影像數據集,使用半自動紋理分析可以達到肝臟66%、腦87%和肺100%的識別準確度;而進一步結合DL訓練建立的計算機輔助診斷(CAD)模型,可使識別準確度提升到肝臟89%以及腦部和肺臟均為100%。即使最後利用真實的臨床器官影像來測試我們的模型也可以達到肝臟76.3%、腦部100%和肺臟65.38%的識別準確度。[結論]根據我們的結果,我們認為在傳統的18F-FDG PET/CT掃描中結合紋理特徵分析技術將有效改善腫瘤的診斷結果及有機會提高18F-FDG PET/CT的診斷價值並加速對癌症患者的明確診斷。將來,如果可以通過更多真實的臨床影像對模型進行訓練,然後建

立新的分類模型和CAD,將對腫瘤有很好的輔助診斷,可以為臨床醫生提供很大的幫助。