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國立中山大學 光電工程學系研究所 洪勇智所指導 林祐農的 新型可調式鏡面全像干涉系統及其應用 （2014），提出曝後烤 駐波效應關鍵因素是什麼，來自於高對比折射率反射鏡、任意週期光柵製作、Lloyd鏡、雙光束、全像干涉。
而第二篇論文國立成功大學 航空太空工程學系碩博士班 李定智所指導 黃明輝的 三維十字型微管道之液滴生成研究 （2011），提出因為有 混合液滴、深寬比、三維交錯微管道的重點而找出了 曝後烤 駐波效應的解答。
新型可調式鏡面全像干涉系統及其應用
為了解決曝後烤 駐波效應 的問題，作者林祐農 這樣論述：
本論文提出一新型鏡面可調之全像干涉系統架構，以解決傳統Lloyd鏡干涉系統在光柵週期與干涉曝光面積上的限制。在系統設計上，我們回到雙光束干涉系統架構，搭配大面積四吋UV反射鏡、空間濾波器、光學極化片、光學半波片、鏡面旋轉控制平台及分光鏡等光學組件，利用實驗，成功實現出具有高靈活性的光柵結構週期與大面積干涉曝光之全像干涉系統。相較於傳統雙光束干涉系統，本論文所提出之架構不需進行任何光學組件的重新定位或光學路徑改變，僅需藉由UV反射鏡的旋轉控制即可進行光柵週期的變化，不僅在任何光柵週期下的曝光面積皆至少可達四吋，且此曝光面積不受限於反射鏡面的面積大小。對於一雙光束干涉系統而言，兩光源極化方向的一
致性非常重要，故我們使用光學半波片來進行極化方向的調整，並利用光學偏振片確認入射至樣品的擴束光源具有平行於雷射初始端之極化方向。藉由製程參數的最佳化，我們成功製作出光柵週期從240nm至1500nm之一維週期性光柵結構與二維光子晶體陣列結構於四吋矽基板與5x5 cm的ITO玻璃上。由於本干涉系統可以輕易實現較長週期(0.5~1μm)的光柵結構，相信會很有很多實質上的應用，如高折射率對比光柵反射鏡。
三維十字型微管道之液滴生成研究
為了解決曝後烤 駐波效應 的問題，作者黃明輝 這樣論述：
微機電系統技術(MEMS)迅速發展，改變了人們對微小尺度上的了解，進而去更深入探討微小尺度下的研究，此系統具有體積小、成本低、檢測只需少量樣本、反應時間快、便於攜帶等優點，為了在有限的晶片面積上整合更多的功能，不同平面的三維結構晶片才是未來的發展潮流。 本研究使用三維十字型微管道進行液滴生成之研究，藉著三維十字型微管道液滴生成之特殊性，來比較不同管道外型，發現在寬扁管道中其液滴生成之特殊性較為穩定，進一步去控制入口流量，比較二維管道與三維管道在液滴生成上與其特殊性是否有所差異，最後發現二維管道在液滴生成上優於三維管道，但三維管道有其二維管道所沒有之特殊液滴生成方式，在三維十字型管道交錯窗口
間，能夠相互結合生成液滴，利用此特殊性來生成混合液滴，調配不同比例的濃度，來進行混合與探討，經過不同種流量的控制實驗後，油水比控制在一定的範圍下能夠較穩定生成，且在調配不同濃度之混合液滴是有一定的穩定性，利用三維管道獨特的混合機制來控制液滴混合的濃度及比例，可在液滴生成的控制上進行更廣泛的研究。