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華梵大學 機電工程學系 黃忠仁所指導 李祐昇的 以大氣電漿改善顯示器面之耐磨及透光性 （2015），提出按鍵保護膜關鍵因素是什麼，來自於大氣電漿、HMDSO、二氧化矽薄膜、疏水角、透光度。

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接下來讓我們看這些論文和書籍都說些什麼吧：

除了按鍵保護膜，大家也想知道這些：

嗨！黑卡：索尼RX100/RX100ll攝影手札

為了解決按鍵保護膜的問題，作者劉征魯 這樣論述：

黑卡——影友手中的攝影利器，本書並不是講述如何使用黑卡相機的說明書，這里講述的是：使用黑卡的心得、攝影的心得，以及作者在這麼多年熱愛攝影的執着。希望通過本書可以讓擁有黑卡或者准備擁有黑卡的人們，對這款相機、對攝影、對攝影時需要保持的熱情，有更加深刻的理解。劉征魯，網名玻璃缸的魚，海軍某部副營職干部，畢業於南昌航空大學，自學攝影6年有余，曾在解放軍報、解放軍畫報、人民海軍報、遼寧日報，以及人民網、新華網等各大媒體發表攝影作品數百幅，並在全軍舉行的攝影比賽中獲獎。

以大氣電漿改善顯示器面之耐磨及透光性

為了解決按鍵保護膜的問題，作者李祐昇 這樣論述：

隨著電子產品的進步，為了操作的便利及更小的體積，螢幕除了顯示畫面更需具有輸入功能，由以往的機械按鍵改為螢幕觸控，為了讓觸控螢幕經得起長期按壓及敲擊，在螢幕表面選用機械性質佳的玻璃作為底材，然而玻璃材質本身不具有疏水及抗汙的特性，水滴及髒汙容易附著於表面，不但遮礙畫面顯示更影響觸控功能，故在玻璃表面鍍製一層具有疏水特性且附著力佳的SiOx薄膜作為外層保護膜。 本實驗用AC大氣電漿鍍製SiOx薄膜。AC大氣電漿系統可在大氣環境下進行鍍膜，不需抽氣幫浦和真空腔體。電漿主氣體為乾燥空氣。前驅物使用HMDSO反應作為矽源，並在前驅物外設置恆溫設備維持固定的溫度，再以Ar氣體( carry gas

)帶出前驅物。製程掃描速度在100 mm/s 時，基材溫度約在60 ℃。 本實驗選擇電漿功率、carry gas 流量、噴頭距離作為影響因子，進行分析與探討。電漿功率提升，會加速成核反應，產生大量粉末。carry gas (Ar)提升，能抑制成核反應。噴頭距離不會影響電漿反應。實驗所找出的最佳參數在電漿功率350W、carry gas 80 sccm 、噴頭距離15 mm ，鍍製之薄膜透光度在90 % 以上，水滴接觸角為90度。關鍵字:大氣電漿、HMDSO、二氧化矽薄膜、疏水、透光度

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